7nm EUV工艺能够继续挖掘7nm潜力，提升晶体管密度并降低功耗。
就拿台积电的7nm EUV来说，它的提升是非常巨大的。
相比普通7nm，7nm EUV能够提升20%晶体管密度，并降低6%到12%同频功耗。
EUV是极紫外光刻（Extreme Ultraviolet Lithography）的缩写，常被称作EUV光刻。
该光刻设备波长，从以前的193纳米，缩短到了10几纳米。这在半导体领域，是一个非常重大的突破。
借助EUV技术，厂商可以在相同的面积下，集成更多的晶体管。
CPU晶体管越多，能够同时处理的数据就越多，性能也就越强。